總而言之，工業(ye)(ye)級(ji)QuantumX打(da)(da)印系(xi)統(tong)系(xi)列(lie)提供了從納米到中觀尺寸結構的(de)(de)非常先進的(de)(de)微(wei)(wei)制(zhi)造工藝，適(shi)(shi)用(yong)于晶(jing)圓級(ji)批量加(jia)工。作(zuo)為全球頭一臺雙(shuang)光(guang)(guang)子灰度(du)光(guang)(guang)刻(ke)激光(guang)(guang)直(zhi)寫系(xi)統(tong)，QuantumX可以(yi)打(da)(da)印出具有(you)出色(se)形狀精度(du)和光(guang)(guang)學(xue)(xue)質量表面的(de)(de)高精度(du)微(wei)(wei)納光(guang)(guang)學(xue)(xue)聚合物母(mu)版，可適(shi)(shi)用(yong)于批量生產的(de)(de)流(liu)(liu)水線工業(ye)(ye)程(cheng)序，例如注塑，熱(re)壓花(hua)和納米壓印等加(jia)工流(liu)(liu)程(cheng)，從而拓展微(wei)(wei)納加(jia)工工業(ye)(ye)領域的(de)(de)應用(yong)。2GL與這(zhe)些批量生產流(liu)(liu)水線工業(ye)(ye)程(cheng)序的(de)(de)結合得益于新技術(shu)的(de)(de)亞微(wei)(wei)米分(fen)辨率和靈活(huo)性(xing)的(de)(de)特點，同(tong)時(shi)縮(suo)短(duan)創新微(wei)(wei)納光(guang)(guang)學(xue)(xue)器(qi)(qi)件（如衍射和折射光(guang)(guang)學(xue)(xue)器(qi)(qi)件）的(de)(de)整體制(zhi)造時(shi)間。Nanoscribe利(li)用(yong)雙(shuang)光(guang)(guang)子微(wei)(wei)光(guang)(guang)刻(ke)原理系(xi)列(lie)3D打(da)(da)印機能(neng)夠輕松(song)打(da)(da)印出精細結構分(fen)辨率高出100倍的(de)(de)三維微(wei)(wei)納器(qi)(qi)件。遼寧(ning)超高速3D打(da)(da)印系(xi)統(tong)
Nanoscribe的(de)(de)(de)(de)(de)(de)雙光(guang)(guang)子(zi)聚(ju)合技(ji)術具(ju)有極高(gao)(gao)設計(ji)自由度(du)和(he)(he)超高(gao)(gao)精(jing)度(du)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)特點，結合具(ju)備(bei)生(sheng)物兼(jian)容特點的(de)(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)敏樹脂(zhi)和(he)(he)生(sheng)物材(cai)料(liao)，開(kai)發并制(zhi)(zhi)作(zuo)真正意義上的(de)(de)(de)(de)(de)(de)高(gao)(gao)精(jing)度(du)3D微(wei)(wei)納(na)結構(gou)，適用(yong)于生(sheng)命科(ke)(ke)學(xue)(xue)領域的(de)(de)(de)(de)(de)(de)應用(yong)，如(ru)設計(ji)和(he)(he)定制(zhi)(zhi)微(wei)(wei)型生(sheng)物醫學(xue)(xue)設備(bei)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)原型制(zhi)(zhi)作(zuo)。Nanoscribe的(de)(de)(de)(de)(de)(de)PhotonicProfessionalGT2使用(yong)雙光(guang)(guang)子(zi)聚(ju)合(2PP)來產生(sheng)幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構(gou)、自由設計(ji)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)圖(tu)案、順(shun)滑的(de)(de)(de)(de)(de)(de)輪廓、銳利的(de)(de)(de)(de)(de)(de)邊緣、表面的(de)(de)(de)(de)(de)(de)和(he)(he)內(nei)置倒(dao)扣以及橋接(jie)結構(gou)。PhotonicProfessionalGT2結合了設計(ji)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)靈活性和(he)(he)操(cao)控的(de)(de)(de)(de)(de)(de)簡(jian)潔性，以及比較廣的(de)(de)(de)(de)(de)(de)材(cai)料(liao)-基(ji)板選擇(ze)。因此，它是一(yi)個(ge)理想的(de)(de)(de)(de)(de)(de)科(ke)(ke)學(xue)(xue)儀器和(he)(he)工業快速成型設備(bei)，適用(yong)于多用(yong)戶共享平臺(tai)和(he)(he)研(yan)究實(shi)驗室。Nanoscribe的(de)(de)(de)(de)(de)(de)3D無掩模光(guang)(guang)刻機目(mu)前已經(jing)分布在30多個(ge)國家的(de)(de)(de)(de)(de)(de)前沿研(yan)究中，超過1,000個(ge)開(kai)創性科(ke)(ke)學(xue)(xue)研(yan)究項目(mu)是這項技(ji)術強(qiang)大(da)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)設計(ji)和(he)(he)制(zhi)(zhi)造能(neng)力特別好(hao)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)證明(ming)。歡迎咨詢2GL3D打(da)印技(ji)術更多關(guan)于Nanoscribe微(wei)(wei)納(na)米(mi)3D打(da)印的(de)(de)(de)(de)(de)(de)內(nei)容，請致(zhi)電Nanoscribe中國分公司納(na)糯(nuo)三維科(ke)(ke)技(ji)（上海）有限公司。
由(you)Nanoscribe研(yan)發(fa)的(de)(de)(de)IP系列光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)是(shi)用于(yu)特別高分(fen)辨率微(wei)(wei)納(na)3D打(da)(da)印的(de)(de)(de)標準(zhun)材料。所打(da)(da)印的(de)(de)(de)亞微(wei)(wei)米(mi)級別分(fen)辨率器件(jian)具有(you)特別高的(de)(de)(de)形狀精度，屬于(yu)目前市場上易于(yu)操作的(de)(de)(de)“負(fu)膠(jiao)”。IP樹脂作為高效的(de)(de)(de)打(da)(da)印材料，是(shi)Nanoscribe微(wei)(wei)納(na)加工(gong)(gong)解(jie)決方案的(de)(de)(de)基(ji)本組成部分(fen)之一。我們(men)提供針對優(you)化不同光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)和(he)應(ying)用領域的(de)(de)(de)高級配套軟件(jian)，從而簡化3D打(da)(da)印工(gong)(gong)作流程并加快(kuai)科研(yan)和(he)工(gong)(gong)業領域的(de)(de)(de)設計迭代周(zhou)期(qi)，包(bao)括仿(fang)生表面，微(wei)(wei)光(guang)(guang)(guang)學(xue)(xue)(xue)元件(jian)，機械超(chao)材料和(he)3D細胞支架等(deng)。利(li)用Nanoscribe的(de)(de)(de)雙光(guang)(guang)(guang)子聚(ju)合微(wei)(wei)納(na)3D打(da)(da)印技術，斯圖加特大學(xue)(xue)(xue)和(he)阿德萊德大學(xue)(xue)(xue)的(de)(de)(de)研(yan)究(jiu)人員聯手澳大利(li)亞醫學(xue)(xue)(xue)研(yan)究(jiu)中心的(de)(de)(de)科學(xue)(xue)(xue)家們(men)新(xin)研(yan)發(fa)的(de)(de)(de)微(wei)(wei)型內(nei)窺(kui)鏡(jing)。將12050微(wei)(wei)米(mi)直徑的(de)(de)(de)微(wei)(wei)光(guang)(guang)(guang)學(xue)(xue)(xue)器件(jian)直接打(da)(da)印在(zai)光(guang)(guang)(guang)纖(xian)上，構建(jian)了(le)一款(kuan)功能齊全(quan)的(de)(de)(de)超(chao)薄(bo)像差校(xiao)正光(guang)(guang)(guang)學(xue)(xue)(xue)相干(gan)斷層掃描(miao)探頭(tou)。這是(shi)迄今有(you)報道的(de)(de)(de)尺(chi)寸低值排名優(you)先的(de)(de)(de)自(zi)由(you)曲(qu)面3D成像探頭(tou)，包(bao)括導(dao)管(guan)鞘在(zai)內(nei)的(de)(de)(de)直徑只為mm。歡(huan)迎咨詢(xun)
Nanoscribe稱(cheng)，QuantumX是世界上(shang)**基(ji)(ji)于(yu)(yu)雙(shuang)光子灰度(du)光刻(ke)(ke)技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的(de)工業(ye)系統，目前該(gai)技術正在(zai)申(shen)請(qing)專利。2GL將灰度(du)光刻(ke)(ke)技術與Nanoscribe的(de)雙(shuang)光子聚(ju)合(he)(he)技術相結(jie)合(he)(he)，可生(sheng)產折射(she)和(he)(he)衍射(she)微光學(xue)以及聚(ju)合(he)(he)物母版的(de)原(yuan)型。該(gai)系統配備三個(ge)用于(yu)(yu)實時(shi)過程控制的(de)攝像頭和(he)(he)一個(ge)樹脂分配器(qi)。為了(le)簡化硬件配置之間的(de)轉換，物鏡和(he)(he)樣品夾持器(qi)識別會自動運行。多層衍射(she)光學(xue)元(yuan)件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在(zai)掃(sao)描平面內調制激光功(gong)率來(lai)完成，從而減少多層微制造所需的(de)打印時(shi)間。Nanoscribe表示，折射(she)微光學(xue)也受益(yi)于(yu)(yu)2GL工藝的(de)加工能力(li)，可制作(zuo)增材制造，是一種(zhong)以數字模型文件為基(ji)(ji)礎(chu)，運用粉(fen)末狀(zhuang)金(jin)屬(shu)或塑(su)料等可粘合(he)(he)材料。
由Nanoscribe研發的(de)(de)IP系列(lie)光刻(ke)膠是(shi)用于(yu)(yu)特(te)別(bie)高分辨(bian)率微(wei)納3D打(da)印(yin)的(de)(de)標準材(cai)(cai)料(liao)。所(suo)打(da)印(yin)的(de)(de)亞微(wei)米(mi)級(ji)(ji)別(bie)分辨(bian)率器件具有(you)特(te)別(bie)高的(de)(de)形狀精(jing)度(du)，屬于(yu)(yu)目前市場(chang)上易于(yu)(yu)操作(zuo)的(de)(de)“負膠”。IP樹脂(zhi)作(zuo)為高效(xiao)的(de)(de)打(da)印(yin)材(cai)(cai)料(liao)，是(shi)Nanoscribe微(wei)納加工解決(jue)方案的(de)(de)基本組(zu)成部分之一。我(wo)們提供針(zhen)對(dui)優化不(bu)同光刻(ke)膠和(he)(he)應用領域的(de)(de)高級(ji)(ji)配套軟(ruan)件，從(cong)而(er)簡化3D打(da)印(yin)工作(zuo)流程(cheng)并加快科研和(he)(he)工業領域的(de)(de)設計迭代周期，包括仿生(sheng)表(biao)面，微(wei)光學元(yuan)件，機械(xie)超(chao)材(cai)(cai)料(liao)和(he)(he)3D細胞支架等(deng)。世界上頭一臺雙光子(zi)(zi)灰(hui)度(du)光刻(ke)（2GL®）系統(tong)QuantumX實現了2D和(he)(he)2.5D微(wei)納結(jie)構的(de)(de)增材(cai)(cai)制造。該無(wu)掩模光刻(ke)系統(tong)將灰(hui)度(du)光刻(ke)的(de)(de)出色性能與Nanoscribe的(de)(de)雙光子(zi)(zi)聚合(he)技(ji)術的(de)(de)精(jing)度(du)和(he)(he)靈活性相結(jie)合(he)，從(cong)而(er)達到亞微(wei)米(mi)分辨(bian)率并實現對(dui)體素大小的(de)(de)超(chao)快控(kong)制，自動化打(da)印(yin)以及(ji)特(te)別(bie)高的(de)(de)形狀精(jing)度(du)和(he)(he)光學質(zhi)量表(biao)面。雙光子(zi)(zi)零件可以3D打(da)印(yin)出小于(yu)(yu)100nm分辨(bian)率物體。北(bei)京高精(jing)度(du)3D打(da)印(yin)設備
支持產品快(kuai)速(su)開發，因(yin)為(wei)可以(yi)制(zhi)造形狀復雜的零件，產品多樣化，但(dan)不增加成本。遼寧超高速(su)3D打印系(xi)統
Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰(hui)度光刻技(ji)(ji)術(shu)（two-photongrayscalelithography，2GL）的(de)(de)工(gong)(gong)業系(xi)統，目前該技(ji)(ji)術(shu)正(zheng)在(zai)(zai)申請專利。2GL將灰(hui)度光刻技(ji)(ji)術(shu)與Nanoscribe的(de)(de)雙光子聚(ju)合(he)技(ji)(ji)術(shu)相結合(he)，可(ke)(ke)生產折射和(he)衍(yan)射微(wei)光學(xue)(xue)以及聚(ju)合(he)物母版的(de)(de)原型(xing)。QuantumX的(de)(de)軟(ruan)件能(neng)實時控制(zhi)和(he)監(jian)控打(da)印作(zuo)(zuo)業，并通過交互式觸摸屏控制(zhi)面(mian)板進行操(cao)作(zuo)(zuo)。為了更(geng)好(hao)地(di)管理和(he)安排(pai)用(yong)戶的(de)(de)項目，打(da)印隊列(lie)支持連(lian)續執行一(yi)系(xi)列(lie)打(da)印作(zuo)(zuo)業。該軟(ruan)件有程序向導，可(ke)(ke)在(zai)(zai)一(yi)開(kai)始(shi)就(jiu)指導設計(ji)師和(he)工(gong)(gong)程師完成打(da)印作(zuo)(zuo)業，并能(neng)夠接受任意(yi)光學(xue)(xue)設計(ji)的(de)(de)灰(hui)度圖像。例(li)如，可(ke)(ke)接受高(gao)(gao)達32位分辨率的(de)(de)BMP、PNG或TIFF文件，以便使(shi)用(yong)Nanoscribe的(de)(de)QuantumX進行直接制(zhi)造。在(zai)(zai)雙光子灰(hui)度光刻工(gong)(gong)藝中，激光功率調制(zhi)和(he)動態聚(ju)焦(jiao)定位在(zai)(zai)高(gao)(gao)掃描(miao)速度下(xia)可(ke)(ke)實現同(tong)步進行，以便對每個掃描(miao)平面(mian)進行全體素大小控制(zhi)。Nanoscribe稱，QuantumX在(zai)(zai)每個掃描(miao)區域內可(ke)(ke)產生簡單和(he)復雜的(de)(de)光學(xue)(xue)形狀，具(ju)有可(ke)(ke)變(bian)的(de)(de)特征高(gao)(gao)度遼寧超高(gao)(gao)速3D打(da)印系(xi)統